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　　常規(guī)清洗液配方提供的清洗溶液是將一定重量的化學(xué)藥品加入到100加侖(379升)的潔凈水中(RO產(chǎn)品水或不含游離氯的水)。溶液是按所用化學(xué)藥品和水量的比例配制的。溶劑是RO產(chǎn)品水或去離子水，無(wú)游離氯和硬度。清洗液進(jìn)入膜元件之前，要求徹底混和均勻，并按照目標(biāo)值調(diào)pH值且按目標(biāo)溫度值穩(wěn)定溫度。常規(guī)的清洗方法基于化學(xué)清洗溶液循環(huán)清洗一小時(shí)和一種任選的化學(xué)藥劑浸泡一小時(shí)的操作而設(shè)定的。

　　常規(guī)清洗液配方(以100加侖，即379升為基準(zhǔn))

　　清洗液主要組份有藥劑量、清洗液、pH值、最高清洗液溫度

　　1、氫氧化鈉(100%粉末) 或(50%液體)

　　0.83磅(0.38公斤) 0.13加侖(0.5升)

　　緩慢加入氫氧化鈉調(diào)節(jié)pH至11.5，調(diào)低pH時(shí)用鹽酸

　　30℃

　　2、檸檬酸(100%粉末)

　　17.0磅(7.7公斤)

　　用氨水調(diào)節(jié)pH至3.0~4.0

　　40℃

　　3、鹽酸(HCl)(密度22波美度或濃度36%)

　　0.47加侖(1.8升)

　　緩慢加入鹽酸調(diào)節(jié)pH至2.5，調(diào)高pH用氫氧化鈉

　　35℃

　　常規(guī)清洗液介紹

　　溶液1

　　0.5%(W)鹽酸低pH清洗液，主要用于去除無(wú)機(jī)物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)，金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)，及無(wú)機(jī)膠體。這種清洗液比溶液1要強(qiáng)烈些，因?yàn)辂}酸(HCl)是強(qiáng)酸。

　　溶液2

　　0.1%(W)氫氧化鈉高pH清洗液。用于去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強(qiáng)烈的堿性清洗液。

　　溶液3

　　2.0%(W)檸檬酸(C6H8O7)的低pH清洗液。用于去除無(wú)機(jī)鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)、金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無(wú)機(jī)膠體十分有效。

　　以上就是小編為大家介紹的關(guān)于純化水設(shè)備系統(tǒng)清洗液的選擇介紹，對(duì)于純化水設(shè)備小編還建議大家了解一下純化水設(shè)備系統(tǒng)化學(xué)清洗方法，以便更好地了解純化水設(shè)備的使用。